在痕量分析中，超纯水系统所制备的超纯水质量对分析结果起着举足轻重的影响。

20世纪50年代初期，电子学中半导体材料崛起，观察到半导体的电性能与杂质含量有关。由于重金属杂质具有电活性，严重降低单晶硅中载流子寿命，所以其含量需在1ng/g或0.1ng/g以下，测定杂质含量在10-6%—10-8%或更低。半导体材料使人们认识到痕量元素在超纯材料中的重要性，从而开辟了痕量分析的新时代。

在进行痕量分析时，为了达到最好的量化指标，两个参数至关重要：实验的环境以及稀释标准液和洗涤玻璃器皿的超纯水。目前，最常使用的超纯水机在生产超纯水过程中，电阻率测量以及可溶性硅、硼是评价树脂效率最关键的参数。

用于痕量分析用水的超纯水机包含一系列纯化系统，主要由预处理单元、RO反渗透单元以及后置纯化单元组成。和泰超纯水机以自来水为进水水源，每小时的产水达到15升，且产出的超纯水指标为：电阻率为18.2MΩ.cm@25℃ ；TOC<3ppb；重金属离子＜0.1ppb；微生物/细菌＜1CFU/ml；热源/内毒素＜0.001EU/ml；颗粒物（＞0.22um）＜1/ml，其产出的超纯水系统适用于痕量分析之中。

超纯水机能够有效的去除水中的硼、硅离子在内的所有粒子，显示出了较高的离子截留率和稳定性。在最后的水纯化单元，超纯水机通过使用特殊设计的硼去除纯化柱可以降低早期的硼穿透现象。这些技术的结合保证达到适合于ppt级、次ppt级痕量分析对超纯水机生产的超纯水的要求。